- 热丝CVD制备纳米金刚石薄膜研究
- 该论文通过对HFCVD装置的相关参数进行研究,改装建立了一套HFCVD制膜设备,并确立了一组适用于在该实验设备上利用HFCVD方法制备纳米金刚石薄膜的较佳工艺条件.实验结果表明,在该实验条件下,利用改装的HFCVD设备制得了纳米金刚石薄膜.针对金刚石薄膜生长过程,根据热力原理、表面的反应动力学以及纳米金刚石薄膜的生长动力学,系统地讨论了薄膜生长机理,并分析一定质量的纳米金刚石薄膜奠定了基础.该论文还就拉曼散射原理,对影响纳米金刚石薄膜的颗粒粒径计算的相关因素进行了分析.
- 作者：方静华专业：材料物理与化学分类号：TB383导师：项金钟单位：云南大学
- 金刚石的形核与生长
- 该论文简要回顾了化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜研究的历史变革和最新进展,简要介绍了非平衡热力学耦合模型,并对CH<,4>-H<,2>系统生长金刚石薄膜做了理论上的解释,在此基础上着重介绍了作者用热丝化学气相沉积法(HF-CVD)研究衬底生长金刚石薄膜的形核和生长方面所做的工作.
- 作者：王学专业：凝聚态物理分类号：O4导师：潘礼庆单位：北京科技大学
- CVD法低温合成纳米金刚石薄膜及其动力学研究
- 该文论述的是低温下合成纳米金刚石薄膜及其动力学研究.实验采用辉光等离子体辅助热丝CVD技术,并尝试在热丝与基片之间加入一个栅极,目的是降低基片温度,改变电场分布,用栅极模仿和制造一个电偶极层,研究其对金刚石低温沉积的影响.实验中所用的基片为P型硅(100)单晶,气体为高纯甲烷(CH<,4>)和高纯氢气(H<,2>),所所合成的薄膜样品采用SEM、RAMAN光谱和X射线衍射检测和分析其成分及结构特性....
- 作者：段苹专业：光学分类号：O484导师：文钦若;赵庆勋单位：河北大学
- 新型金刚石薄膜的制备和应用研究
- 该论文系统研究定向金刚石薄膜、纳米金刚石薄膜、掺硼金刚石薄膜和AlN/diamond复合膜等新型CVD金刚石薄膜,详细阐述了这几种新型金刚石薄膜制备过程和生长参数控制,并利用拉曼光谱、扫描电镜、X射线特征能谱和X射线衍射仪以及二次离子谱等分析手段对薄膜的性质结构进行了分析,完成了新型金刚石薄膜的基础研究,并制备了性能优秀的薄膜器件:大面积纳米晶作为场发射器件;掺硼金刚石薄膜电子硬度计压头和新型掺硼....
- 作者：龚辉专业：光学工程分类号：O484导师：范正修单位：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 液相电沉积类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜
- 该论文主要研究利用液相电沉积方法制备类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜,包括以下几个方面:(1)高电压电解乙腈沉积类金刚石薄膜在60℃、1600 V的电压下以乙腈为电解液在硅片上沉积类金刚石薄膜,发现电流密度随着反应时间的延长呈现波动变化的规律,并利用透射电子显微镜和原子力显微镜对其不同生长阶段的形貌进行了考察,结果表明这种薄膜由100nm左右的颗粒组成.红外光谱、X-射线光电子能谱和拉曼光谱分析表明....
- 作者：江河清专业：无机化学分类号：TB43导师：张治军单位：河南大学
- 真空磁过滤弧沉积非晶金刚石薄膜及其在生物医学材料领域中的应用研究
- 该论文大国内第一台真空磁过滤弧沉积(Fileredarcdeposition,FAD)系统的基础上,以制备优质非晶金刚石薄膜为目标,对设备进行了优化改造.添加了射频电源,以便在绝缘基体上沉积薄膜;添加了液氮冷却系统,能够在77K左右的低温下进行薄膜制备;添加了灯丝的辅助离子源,能进行离子辅助沉积,以及对薄膜进行掺杂,特别是因为离子源为无灯丝离子源,因而可进行氧掺杂.利用FAD系统在室温条件下制备了....
- 作者：俞柳江专业：材料物理化学分类号：F318.08导师：王曦单位：中国科学院上海冶金研究所
- 金刚石薄膜/立方氮化硼单晶异质结的制备
- 该文通过P-型金刚石薄膜/N-型立方氮化硼单晶的异质制备方法的探索,对金刚石薄膜的P-型掺杂、立方氮化硼单晶的N-型掺杂及P-型金刚石薄膜、立方氮化硼单晶的欧姆接触进行了系统研究.尤其对P-型金刚石薄膜/N-型立方氮化硼单晶异质结的结构特性进行较细致研究,克服了立方氮化硼单晶体积较小而造成不易测试的困难.
- 作者：王成新专业：凝聚态物理分类号：O484导师：高春晓单位：吉林大学
- 非金属陶瓷材料基底上金刚石薄膜成核特性研究
- 该论文利用热灯丝化学气相沉积设备和多种实验手段,详细研究了化学气相沉积过程中金刚石薄膜在一些非金属材料基底表面的成核过程和特点,探讨了金刚石膜的成核、生长与基底材料的物理参数如晶格结构、晶格常数之间的相互作用,以及一些基底预处理方法对金刚石成核、生长的影响.
- 作者：季燕菊专业：凝聚态物理分类号：O484导师：高春晓单位：吉林大学
- 霍尔离子源制备类金刚石薄膜及其性能研究
- 类金刚石薄膜具有高硬度,低摩擦系数,很好的化学稳定性,红外特性及场发射性能等物理和化学性能,因而在耐磨保护膜,光学元件、微电子产品等很多方面得到了广泛应用.采用霍尔离子源沉积类金刚石薄膜是近年来新出现的一种方法,该文研究了自行研制的霍尔离子源的性能以及采用此霍尔离子源制备的类金刚石薄膜性能及工艺参数的影响.结果表明,霍尔离子源在较低的电压即可起辉,可在较大电流范围提供稳定的低能量离子束流.随着离子....
- 作者：孙书龙专业：材料物理与化学分类号：TB383;O484.4导师：王燕斌;杨会生单位：北京科技大学
- 先驱聚合物合成类金刚石薄膜的研究
- 该论文对先驱合物聚碳苯poly(phenylcarbyne)合成类金刚石薄膜进行了研究.首先 ,通过化学方法合成一种新型碳基网络聚合物poly(phenylcarbyne),利用红外光谱、时间 飞行质谱和差示扫描量热法等现代测试手段对其结构和成分进行了分析测试.通过在性性气氛中高温热处量,在不同基体材料上由聚合物制备出了类金刚石薄膜,并研究了热处理温度对其结构和形貌的影响.通过对基体进行不同方式的....
- 作者：钟玉荣专业：材料科学材料物理与化学分类号：O613.71导师：王天民;李培勋单位：兰州大学
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