- 光学碳化硅薄膜及硅碳氮薄膜的制备与研究
- 该文利用射频溅射方法制备出了性能优良的无定形薄膜,并探讨了几种热处理工艺对其性能的改善;同时研究了与之相关的硅碳氮薄膜;在此基础上进一步研究了薄膜表面形貌的改善及其机理.首先,系统地研究了射频反应溅射工艺如溅射功率(溅射靶压)、溅射气压以及溅射气体内甲烷分压对无定形碳化硅薄膜的沉积、组成结构的影响.在此基础上通过优化工艺,成功地制备出在红外部分透明、在可见光部分低吸收、在紫外部分高反射、并具有极高....
- 作者：彭晓峰专业：材料科学与工程分类号：TN304.055导师：胡行方单位：中国科学院上海硅酸盐研究所
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