[TiMing]：TanJiFeiJingBaoMoCaiLiaoDeZhiBei、GuangXueXingZhiYuChangFaSheDeYanJiu
[作者]：黄晓辉[ZuoZhe]：HuangXiaoHui[专业]：物理系微电子学与固体电子学[ZhuanYe]：WuLiXiWeiDianZiXueYuGuTiDianZiXue
[导师]：徐骏[DaoShi]：XuJun[学位]：硕士[XueWei]：ShuoShi
[单位]：南京大学[DanWei]：NanJingDaXue
[关键词]：碳基非晶薄膜材料;光学性质;场发射
[时间]：20020607[页数]：43页[点击]：20041[分类号]：O484[语种]：中文文摘[来源]： 毕业论文
[文摘]：氢等离子体表面处理在制备器件级非晶体半导体薄膜材料方面已被证明是一种行之有效的方法.它可以驰豫薄膜结构，提高光电导率及材料的稳定性.该文将氢等离子体化学退火技术应用于非晶碳膜的制备中，系统了研究了氢等离子体化学退火条件对非晶碳膜的结构、发光性质以及场发射特性的影响.同时，为了提高发光效率，利用有机碳源代替甲烷（CH<,4>）制备出了具有聚合物结构的碳化硅薄膜，设计并获得了基于这种材料的电致发光二级管原型器件，在室温下观察到了较强的电致可见光发射，并对其中的发光机制作了探讨.
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