界面工程处理边缘结的制备及相关技术的研究-杨森祖-毕业论文
[题名]:界面工程处理边缘结的制备及相关技术的研究
[TiMing]:JieMianGongChengChuLiBianYuanJieDeZhiBeiJiXiangGuanJiShuDeYanJiu
[作者]:傅泽禄[ZuoZhe]:FuZeLu[专业]:无线电物理[ZhuanYe]:WuXianDianWuLi
[导师]:杨森祖[DaoShi]:YangSenZu[学位]:硕士[XueWei]:ShuoShi
[单位]:南京大学[DanWei]:NanJingDaXue
[关键词]:高温超导Josephson结;组合掩模;界面工程处理;等离子体氟;边缘
[时间]:20010526[页数]:42页[点击]:20041[分类号]:TN301;TM26[语种]:中文文摘[来源]: 毕业论文
[文摘]:该文环绕了此方向开展了如下几项工作.1、设计并成功地制备了一种悬挂的组合掩模,它是一种YSZ/PBCO结构的微型组合悬挂掩模.2、使用XPS与AFM分析手段,研究了CF<,4>等离子体处理对YBCO超导膜的影响.根据O(1s)、Y(3d)等电子谱的明显变化和AFM表面形貌的分析,初步确定以化学变化为主.并对氟化后的YBCO膜的输运性质作了测量.为用等离子体氟化处理YBCO形成弱化势垒层提供了依据.3、采用真空退火的界面工程处理方法,成功地制备了Josephson边缘结,在8mm微波辐照下得到了明显的Shapiro台阶.在25K时,结的特征电压约10μV,结的特性基本符合RSJ模型.4、最后,在前述等离子体氟化研究基础上,对等离子体氟化处理方法制备边缘结做了探讨,结合耐高温悬挂组合掩模,提出了一种界面氟化处理原位制结的工艺.
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